伴随着科技的进步，靶材这一类高科技产品近年来也发展迅速，PLD靶材是众多靶材种类中的一种，凭借技术简单、效果优异的特点获得很多用户的青睐。那么这种技术是如何操作的呢？PLD靶材的用途如何？在本文总结了相关内容和大家分享。

首先我们要了解PLD技术是如何操作的，然后就可以通过其技术手段衍生出各种用途。本文主要介绍的是依据PLD技术进行制膜的工艺的相关内容。

当脉冲激光照射固体材料时 , 有电子、离子和中性原子从固体表面“跑”出来 , 并在其附近形成一个发光的等离子区，其温度估计在几千到一万度之间 , 当这些粒子在衬底上凝结就可得到薄膜 , 这就是脉冲激光镀膜（PLD）的概念。脉冲激光沉积技术是目前很有前途的制膜技术之一，该技术简单且有很多优点，比如，PLD靶材与薄膜的化学组分基本相同。因此，获得高质量的PLD靶材对生长高质量的薄膜至关重要。

本文以皮埃路电子技术有限公司生产的SrRuO3陶瓷靶材为例，为大家具体讲述PLD靶材的制备方法和规格参数。

1. 陶瓷靶材制备方法：采用99.95%纯度SrCO3、99.9%或99.99%纯度 RuO2粉末, 按化学计量比配料，球磨5至8小时后混合均匀，在大于1100度通过热压烧结制备陶瓷靶材。

2. 陶瓷靶材规格：单一结构相；直径20至50毫米，厚度3至6毫米，Ru是贵金属，高质量的SrRuO3靶材价格通常在3500元及以上，而不含贵金属元素的普通靶材通常在2000元及以上。

如有想要购买PLD靶材的客户，欢迎咨询皮埃路电子技术有限公司。

皮埃路电子自成立以来，始终秉承客户至上，质量至上的理念，根据客户的要求生产稳定可靠的靶材产皮埃路电子技术有限公司是南京政府321项目资助的高科技公司，由新加坡南洋理工大学、南京理工大学、南京航空航天大学和南京大学的几位教授负责技术指导。我们乐意为您定制高纯、高密度的溅射靶材，方便您进一步通过磁控溅射、脉冲激光沉积（PLD）系统制备高质量的薄膜。

如果您希望研究一种目前尚未存在的单晶薄膜，您可以自己设计组分，我们会为您量身定做专用的氧化物陶瓷靶材、也可以组织专家学提供薄膜生长方面的建议。我们也可以通过的磁控溅射或PLD为您定做相应的薄膜，甚至进行XRD、SEM和AFM检测。在您提出需求和签订合同之后，我们将在3-5周内为您提供专用的高质量靶材。我们的每个靶材的原材料纯度都保证在99.9%以上，部分靶材的原材料纯度可以实现99.99%。靶材价格是由原材料和加工难度决定的，具体费用请拨打吸顶悬浮的电话联系咨询！